金融界2025年1月24日消息，国家知识产权局信息显㊣示，恩维世科斯有限公司申请✅一项名为“全息投影㊣系统”的专利，公开号CN 119335837 A，申请日期为2024年7月。

　　专利✅摘要显示，提供㊣了一种全息投影系统。系统包括检测器装置，其布置成检测由第㊣一检测区域接收的㊣光。系统布置成执行光学对准过程，其包括选择像素阵列中的第一像素什么是品牌再定位。光学对准过程包括形成第一图片的第一全息重建，第一图片包括主控制区域，主控制区域包括所选择的第一像素。光学对㊣准过程还包括移动第一全息重建，使得第一全息重建在多个位置之间移动。光学对准过程还包括确定由第一检测区域在多个位置中的每个中接收的光的参数值，并将每个参数值与阈值条件进行比较。如果不满足阈值条件，全息㊣投影系统布置成通过以下重复光学对准过程：选择像素阵列中与第一像素相邻的第二像素；以及形成第二图片的第二全息重建，第二图片包括包含第二像素的主控㊣制区域。